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常见问题
光芯片盐雾试验箱
光芯片盐雾试验箱用于确定半导体器件耐腐蚀的能力。其试验原理是模拟严酷的海边大气对器件暴露表面影响的加速试验,适用于工作在海上和沿海地区的器件。

试验标准:
GB/T 4937.13 半导体器件 机械和气候试验方法 第13部分:盐雾
技术参数:

试验预处理:
若规定了预处理,试验样品在进行盐雾试验之前,器件引线应按IEC 60749-14规定的试验条件B的要求,承受弯曲应力的预处理。如果进行盐雾试验的样品已经作为其他试验的一部分进行过所要求的预处理,其引线无需重新弯曲。

试验过程:
1.预处理之后,试验样品应按如下方式放置在试验箱里,使它们彼此不接触,彼此不遮挡,能自由地接受盐雾作用,腐蚀生成物和凝聚物不会从一个样品滴落在另一个样品上。
2.试验箱中喷雾的保持时间应按以下试验条件的要求执行。

3.试验期间,试验箱内的温度应保持在(35±2)℃,盐雾的浓度和喷出速度应调节到使试验区域内盐沉降率为(30±10)g/(m2·d)。
4.在不低于35℃测量时,盐溶液的 pH值应在6.0~7.5之间[只能用化学纯(CP 级)的盐酸或氢氧化钠(稀溶液)来调整pH值]。

如有光引擎高温寿命试验箱的选型疑问,可以咨询环仪仪器相关技术人员。
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