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LD激光芯片温度试验系统对LD芯片的高温失效分析
半导体激光器(Laser Diode,简称LD)是以半导体材料为工作物质的一类激光器,为检测LD芯片,需要使LD芯片与光纤耦合,在LD激光芯片温度试验系统进行常规的高温、低温、常温和光电性能检测。
在LD激光芯片的高温检测中,常常会引起失效。下面,我们就LD芯片的高温失效分析,做出以下研究,下面是主要研究内容。
LD芯片高温失效分析:
试验设备:环仪仪器 LD激光芯片温度试验系统

试验条件为: 在85 ℃温度条件下,光模块加电 3.5 V,老化 1 500 h。
失效产品结构和功能分析:
1.光电参数测试和分析
为了确定失效样品的失效特性,鉴别失效模式,利用 PIV 测试仪测量激光器 LD 和 PD 主要光电参数, 测试结果如下图所示。

由图可见,失效器件测试激光器 LD 芯片参数均合格,MPD 暗电流和探测电流均异常。
2.高倍显微镜外观检查和分析
将LD 芯片置于 200 倍显微镜下观察,主要观察芯片表面是否有沾污和烧毁等现象。失效器件LD 芯片和正常器件LD 芯片外观对比如下图所示。
a.失效器件LD 芯片

b.正常器件LD 芯片

由图可知,失效产品 LD 芯片光敏面有点状凸起,电极附近有枝晶状物质, 正常 LD 芯片光敏面干净,芯片表面无枝晶状物质。
失效机理分析:
根据失效产品光电测试、高倍显微镜观察的结果,分析失效过程如下所述。
a) LD 芯片在高温老化过程中,负极的导电银胶出现 Ag 迁移现象,逐渐向芯片正极攀爬。根据Ag迁移理论,正负极之间的枝晶生长过程中,导电通路未接通之前,LD 芯片工作尚能维持很好的稳定状态。对应本失效产品高温老化前 800 h,LD 芯片正常工作状态。
b) 枝晶不断生长,在芯片正负极之间形成导电通路,通路一旦接通,便会在该处产生瞬间的局部过电流 (短路电流) 而又将通路熔断,绝缘电阻又恢复到发生短路前的状态。 对应 LD 芯片高温老化 800~1 500 h 之间数据出现跳变的工作状态。
c) Ag 枝晶的生长与短路熔断反复进行,直到枝晶大面积生长,绝缘面局部大面积短路而使其处于持续的电短路状态。导电银胶形成短路通路后,持续大电流发热,电流产生的热传导到 PN结,对 PN 结形成温度、电流恶性循环,导致 PN结热击穿,最终芯片烧毁。 对应 LD 芯片高温老化 1 500 h 之后测试数据,芯片完全失效。
以上就是LD芯片的高温失效分析研究,如有试验疑问,可以咨询环仪仪器相关技术人员。
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